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面曝光3D打印约束基板防粘附增透功能膜及其制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201610459297.7
申请人(专利权人):
王权岱
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种面曝光3D打印约束基板防粘附增透功能膜,包括刻蚀在石英基板表面的纳米结构层,及沉积在纳米结构层表面的低表面能修饰层。本发明还公开了其制备方法:通过浸渍提拉法在石英基板表面单层密排二氧化硅小球;以单层密排二氧化硅小球为掩蔽膜,通过干法刻蚀制备到石英基板表面,得到纳米结构层;在对其进行低表面能处理得到。本发明防粘附增透功能膜,通过表面刻蚀纳米结构层,并在纳米结构层表面沉积低表面能修饰层,使其表面具有疏水/疏油特性,树脂不能填充纳米结构间隙,因而固化树脂与槽底表面只有部分接触,由于固化层与基底表面的接触面积显著减小,因而固化层与基底间的粘附力显著减小。

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