政策资讯

一种一维三氧化钨纳米线的制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201710721737.6
申请人(专利权人):
梁淑华
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明提供一种一维WO3纳米线的制备方法,属于光催化材料及其制备方法技术领域。所述一维WO3纳米线的制备方法,采用双氧水直接氧化溶解钨、钼粉制备钨钼酸前驱体,再利用水热法一步原位(过程中不添加任何有机表面活性剂和模板剂)制备出一维WO3纳米线。所得的一维WO3纳米线具有超小尺寸,其直径小于10nm且单分散性良好。更好的体现了纳米材料优越的光学性能,从而使该材料的综合性能‑尤其是光催化性能得到了优化。使用本申请提供的制备方法制备的WO3纳米线,不同于一般纳米WO3几百纳米到几个微米的较大尺寸,改善了纳米WO3常见的容易团聚、形貌不规则的结构缺点。同时一步“绿色”水热法,避免了有机表面活性剂和模板剂的残留,保证了产物的纯度。

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