政策资讯

一种单层二硫化钼薄膜的制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201710382686.9
申请人(专利权人):
蒲红斌
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明的公开了一种单层二硫化钼薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤1,通过使用真空管式炉设置三个温区,将硫粉置于一温区;将三氧化钼粉置于二温区;将衬底放在带盖的坩埚底部,然后将坩埚放置在三温区;步骤2,向真空管式炉中通载气;步骤3,将二温区加热到150~350℃,将三温区加热到150~350℃;步骤4,将二温区加热到580~800℃,得气态的MoO3‑x,其中0

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