本发明公开了一种基于全介质的光可调双带太赫兹吸收器,以正方体为衬底层,光栅层为一圆环与圆柱组成的设计图样,圆环内套有圆柱,两层结构紧密贴合,衬底层为重掺杂的N型硅,衬底层的厚度为300μm,周期为200μm,掺杂浓度为2.91×1018cm‑3。本发明还公开了其制备方法,首先,清洗抛光硅片衬底,吹干,在硅片表面上旋涂一层光刻胶层,并进行烘烤,将掩膜版置于光刻胶上;对光刻胶进行曝光,显影后得到周期性的结构图案,最后,通过反应离子刻蚀裸露的硅表面,利用有机溶剂去除剩余光刻胶,即可。该全介质双带高效太赫兹吸收器结构简单,不需多层材料堆叠,易集成的,且具有吸收效率高,光可调,灵敏度高的特点。