本发明公开了一种提高纳米金属多层膜韧性的方法,采用磁控溅射技术沉积一种组元材料A的第一层A1,接着沉积第二种组元材料B的第一层B1;然后再沉积组元材料A的第二层A2,A2的厚度不同于A1,接着沉积组元材料B的第二层B2,B2的厚度不同于B1;……;沉积组元材料A的第n层An,An的厚度不同于An‑1,沉积组元材料B的第n层Bn,Bn的厚度不同于Bn‑1,如此交替沉积两种组元材料A和B并同时改变沉积的单层厚度,形成单层厚度在薄膜生长方向上梯度变化的金属多层膜。本发明利用磁控溅射技术在薄膜生长方向上调控单层厚度梯度变化,可大幅提高纳米金属多层膜的韧性。