政策资讯

一种提高纳米金属多层膜韧性的方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201911402987.9
申请人(专利权人):
于首明
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种提高纳米金属多层膜韧性的方法,采用磁控溅射技术沉积一种组元材料A的第一层A1,接着沉积第二种组元材料B的第一层B1;然后再沉积组元材料A的第二层A2,A2的厚度不同于A1,接着沉积组元材料B的第二层B2,B2的厚度不同于B1;……;沉积组元材料A的第n层An,An的厚度不同于An‑1,沉积组元材料B的第n层Bn,Bn的厚度不同于Bn‑1,如此交替沉积两种组元材料A和B并同时改变沉积的单层厚度,形成单层厚度在薄膜生长方向上梯度变化的金属多层膜。本发明利用磁控溅射技术在薄膜生长方向上调控单层厚度梯度变化,可大幅提高纳米金属多层膜的韧性。

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