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一种氧化槽交替隔离型绝缘栅双极晶体管及其制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201811005402.5
申请人(专利权人):
马丽
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种氧化槽交替隔离型绝缘栅双极晶体管,包括从上到下依次设置的包括从上到下依次设置的N+发射极区、P‑body区、N‑CS载流子存储区、N‑drift漂移区、N‑FS场截止区和P+集电极区;位于晶体管中间的N+发射极区内设置有Gate栅极区,位于晶体管中间的P‑body区上表面有与N+发射极区间隔设置的P+发射极区,靠近晶体管边缘的N‑FS场截止区的下表面还设置有N+集电极区,N+集电极区与位于晶体管边缘的P+集电极区间隔设置,靠近晶体管边缘的P+集电极区与N+集电极区之间开有氧化槽,本发明的晶体管通过多处优化设计使得器件在消除Snapback现象的同时恢复损耗也得到降低。

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