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一种双层基区SiC NPN集成晶体管及其制作方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201910089310.8
申请人(专利权人):
蒲红斌
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种双层基区SiC NPN集成晶体管,包括衬底,衬底的上端表面依次设置有第一外延层、第二外延层、第三外延层、第四外延层、第五外延层;第五外延层和第四外延层组成凸台三;第三外延层和第二外延层组成凸台二;第一外延层为凸台一;还包括钝化层,钝化层覆盖凸台三、凸台二和凸台一的外表面及衬底的上端表面;凸台三的上端表面设有电极一;凸台二的上端表面设有电极二;凸台三的上端表面设有有电极三。本发明还公开了该双层基区SiC NPN集成晶体管的制作方法。本发明提供的双层基区SiC NPN集成晶体管的基区采用低高结的双层结构,降低增益β随温度的漂移程度。

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