政策资讯

一种基于计算鬼成像的双层框架光学水印方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201810547814.5
申请人(专利权人):
隋连升
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种基于计算鬼成像的双层框架光学水印方法,步骤包括:1)使用计算鬼成像方法将原始水印图像编码为一系列强度值,将这些强度数据重新排列为二维临时图像,作为第一层的新水印;2)将主图像分成多个较小的区块,将水印图像分割成更小的块,选择一些重要的区块来形成参考图像;通过计算其空间频率系数来识别由重要区块构成的参考图像;3)利用奇异值分解方法,将其嵌入新的水印中;4)执行提取过程,在其上执行奇异值分解变换以获得经调制的奇异值;合成的区块与它们的原始位置形成一一映射,新生成的水印通过用矩阵执行逆奇异值分解来重建,原来的水印恢复为能够被验证的图像。本发明方法扩大密钥空间,提高安全性。

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