政策资讯

一种基于EPI的光场图像超分辨的方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201910764022.8
申请人(专利权人):
肖照林
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
45000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种基于EPI的光场图像超分辨的方法,包括以下步骤:1、将光场原始图像和光场相机参数读入光场相机中;2、对原始图像进行解码得到四维的光场矩阵;3、提取四维光场矩阵的位置信息中坐标方向的像素点得到子孔径图像;4、将子孔径图像按行循环,依次提取每幅图像相同高度值的像素点,得到EPI图像;5、对步骤4得到的每幅EPI图像进行超分辨;6、对经过超分辨的EPI图像进行去模糊操作,再将每一个像素点还原到子孔径图像上。本发明通过子孔径图像提取EPI切片,通过对EPI切片进行超分辨更加有利于恢复原始图像的局部细节部分,从而在不提高硬件配置的前提下提高光场图像空间分辨率和角度分辨率。

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