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基于CH3NH3PbI3材料的衬底反光增强N型异质结HEMT及其制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201611124458.3
申请人(专利权人):
贾仁需
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明涉及一种基于CH3NH3PbI3材料的衬底反光增强N型异质结HEMT及其制备方法。该方法包括:选取蓝宝石衬底;在衬底下表面形成反光层;在衬底上表面制作源漏电极;在衬底上表面形成电子传输层;在电子传输层表面形成包括CH3NH3PbI3材料的光吸收层;在光吸收层表面制作栅电极以最终形成N型异质结HEMT。本发明采用由CH3NH3PbI3向沟道提供大量的电子,在衬底下表面镀银形成反射增强型HEMT,具有迁移率高,开关速度快,光吸收以及光利用率增强,光生载流子增多,光电转换效率大的优点。另外,采用在光吸收层加入了PCBM材料形成了异质结,能通过对孔洞和空位的填充改善光吸收层薄膜的质量,从而产生更大的晶粒和更少的晶界,吸收更多的光产生光生载流子,增强器件性能。

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