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基于隧穿效应的钙钛矿光电器件及其制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201810466776.0
申请人(专利权人):
贾仁需
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明涉及一种基于隧穿效应的钙钛矿光电器件及其制备方法,所述制备方法包括:选取Si衬底;在所述Si衬底的一侧表面沉积金属材料形成下电极;在所述Si衬底的另一侧表面沉积HfO2形成隧穿层;在所述隧穿层上沉积CH3NH3PbI3形成光吸收层;在所述光吸收层上沉积金属材料形成上电极,形成基于隧穿效应的钙钛矿光电器件。所述钙钛矿光电器件依次包括上电极、CH3NH3PbI3光吸收层、HfO2隧穿层、Si衬底和下电极。本发明的钙钛矿光电器件在Si衬底与CH3NH3PbI3之间包括HfO2隧穿层,结构和制备工艺简单,减少光生电子与光生空穴的复合,增大光电流,提高光电器件的灵敏度和效率。

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