政策资讯

一种复合导电膜的仿真分析方法及其电子设备、存储介质

专利类型:
申请号/专利号:
CN201910796830.2
申请人(专利权人):
柴常春
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种复合导电膜的仿真分析方法及其电子设备、存储介质,该方法包括对高介电常数基板和复合导电膜层进行建模得到高介电常数基板几何模型和复合导电膜层几何模型,为高介电常数基板几何模型和复合导电膜层几何模型设置材料模块和若干物理场接口模块,并为每个物理场接口模块设置边界条件,得到基于高介电常数基板的复合导电膜模型;在基于高介电常数基板的复合导电膜模型上建立有限元网格模型,对有限元网格模型进行计算得到仿真结果。本发明将高介电常数基板和复合导电膜层同步建模,考虑了高介电常数基板和复合导电膜层之间的相互作用,从而评估高介电常数基板上复合导电膜层脱落情况,仿真模型更加接近实际情况,仿真结果准确性高。

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