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一种基于叉指结构的横向肖特基二极管及其制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN202010255504.3
申请人(专利权人):
杨凌
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

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交易流程

委托经理人

本发明公开了一种基于叉指结构的横向肖特基二极管及其制备方法,二极管包括:衬底,依次位于衬底上的AlN成核层、GaN缓冲层、AlN插入层、AlGaN势垒层、SiN钝化层、介质层;第一凹槽,贯穿介质层、SiN钝化层、AlGaN势垒层;第二凹槽中第一部分贯穿介质层、SiN钝化层、部分AlGaN势垒层,第二部分贯穿另一部分AlGaN势垒层、AlN插入层和部分GaN缓冲层;阴极沉积有第一欧姆金属;阳极包括若干第二欧姆金属,以及第一凹槽和第二凹槽沉积的若干阳极金属,若干第二欧姆金属与第二凹槽内若干阳极金属交替分布呈叉指结构。本发明阳极采用欧姆加肖特基叉指结构,由于阳极的肖特基接触和欧姆接触处于同一列,反向偏压时将引入较多的肖特基耗尽区,从而提高了器件的反向击穿电压。

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