政策资讯

一种氮化镓基宽摆幅线性化器件及制作方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN201810811364.6
申请人(专利权人):
马晓华
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明涉及一种氮化镓基宽摆幅线性化器件的制作方法,包括步骤:刻蚀AlGaN势垒层,在GaN缓冲层上形成PIN二极管制作区域;在刻蚀后的AlGaN势垒层上制作AlGaN/GaN HEMT器件,测试得到AlGaN/GaN HEMT器件的输入阻抗;在PIN二极管制作区域制作PIN二极管,使得PIN二极管的输出阻抗与输入阻抗共轭匹配;在PIN二极管和AlGaN/GaN HEMT器件上制作互联层,得到宽摆幅线性化器件。本发明实施例在功率放大器前加入PIN二极管,既可以实现电路宽摆幅,又可以提高功率放大器的线性度。

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