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具有钙钛矿复合栅结构的GaN HEMT光电探测器及其制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN202010976148.4
申请人(专利权人):
张泽雨林
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种具有钙钛矿复合栅结构的GaN HEMT光电探测器及其制备方法,其中,GaN HEMT光电探测器包括衬底、位于衬底上的GaN缓冲层、位于GaN缓冲层上的AlGaN势垒层、位于AlGaN势垒层表面两侧的源漏电极,以及位于源漏电极之间的复合栅结构,其中,复合栅结构包括位于AlGaN势垒层上的钙钛矿以及位于钙钛矿层上的TCO层。本发明将钙钛矿图形化后,与透明导电氧化物组成复合栅结构,并将其用在氮化镓HEMT光电探测器上,以使钙钛矿材料优异的光电性能与HEMT器件的高迁移率、高开关比特性相结合,从而获得更好的光电响应,扩大了器件应用范围。

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