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基于高温扩散形成p型ScAlN层的高效发光二极管及制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN202010879621.7
申请人(专利权人):
许晟瑞
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

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交易流程

委托经理人

本发明公开了一种基于高温扩散形成p型ScAlN层的高效发光二极管及制备方法,该高效发光二极管包括:衬底层(1);成核层(2),设置于所述衬底层(1)上;n型GaN层(3),设置于所述成核层(2)上;多量子阱层(4),设置于所述n型GaN层(3)上,所述多量子阱层(4)包括若干AlxGa1‑xN阱层和若干AlyGa1‑yN垒层,且所述若干AlxGa1‑xN阱层和所述若干AlyGa1‑yN垒层依次交替层叠设置于所述n型GaN层(3)上;电子阻挡层(5),设置于所述多量子阱层(4)上;P型ScmAl1‑mN层(6),设置于所述电子阻挡层(5)上;若干电极(7),所述若干电极(7)分别设置于所述P型ScmAl1‑mN层(6)上和所述n型GaN层(3)上。本发明的发光二极管由于P型层采用ScAlN材料,提高了p型层的空穴浓度,从而提高了器件的发光效率。

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