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阳极金属晶向一致的低开启电压GaN二极管及制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN202011060616.X
申请人(专利权人):
宁静
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明涉及一种阳极金属晶向一致的低开启电压GaN二极管及制备方法,本发明的GaN二极管包括:自下而上依次设置的衬底层、GaN缓冲层、GaN沟道层和AlGaN势垒层;AlGaN势垒层上设置有阴极;AlGaN沟道层和AlGaN势垒层内设置有凹槽,凹槽的底部、侧壁以及部分AlGaN势垒层上设置有阳极;AlGaN势垒层上未被覆盖的区域设置有介质层;其中,阳极与凹槽以及AlGaN势垒层的接触部分为晶向为<100>的W或Ni金属。本发明的GaN二极管,采用晶向为<100>的W或Ni金属作为阳极金属,相比于混合晶向的阳极金属具有更好的功函数匹配,从而形成了势垒更小的肖特基接触,使得二极管具有更小的开启电压。

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