政策资讯

一种高线性度复合绝缘侧栅结构的GaN晶体管器件

专利类型:
申请号/专利号:
CN201911150149.7
申请人(专利权人):
王冲
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明涉及一种高线性度复合绝缘侧栅结构的GaN晶体管器件,包括:衬底层;若干沟道层,若干所述沟道层依次叠于所述衬底层上;栅极,设置在若干所述沟道层的两侧和顶部,并位于所述GaN晶体管器件的中间位置处,而且至少最底层的所述沟道层的两侧不设置所述栅极,其中,所述栅极包括栅介质层和栅金属层;源极,设置在所述若干沟道层上,并位于所述GaN晶体管器件的靠近一侧的位置处;漏极,设置在所述若干沟道层上,并位于所述GaN晶体管器件的靠近另一侧的位置处。本发明的GaN晶体管器件具有较小的开态电阻,同时具有较大的电流驱动能力,而且线性度高、功耗小。

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