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一种基于GaN的横向结势垒肖特基二极管及其制备方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN202010887566.6
申请人(专利权人):
赵胜雷
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明涉及一种基于GaN横向结势垒肖特基二极管及其制备方法,此势垒肖特基二极管包括:从下至上依次层叠设置的衬底层、成核层、缓冲层、插入层、势垒层和钝化层;P注入区,设置于缓冲层、插入层和势垒层内,位于缓冲层、插入层和势垒层的一端,P注入区包括若干P区和若干N区,且两个相邻所述P区之间未进行P注入的区域由于存在二维电子气即为N区;阳电极,位于P注入区的上表面;阴电极,位于势垒层的上表面,且位于势垒层远离阳电极的一端。本势垒肖特基二极管及其制备方法,通过P注入区与二维电子气形成梳状的横向PN结,有效屏蔽低势垒高度的肖特基结,可以抑制肖特基势垒降低效应及控制反向漏电流,提高击穿电压,同时保持较低的开启电压。

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