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基于二维光学相控阵的抗干扰探测成像系统和方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN202011626821.8
申请人(专利权人):
廖家莉
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种基于二维光学相控阵的抗干扰探测成像系统和方法,激光器发射目标激光光束,目标激光光束照射到二维光学相控阵后产生扫描光场,扫描光场照射至目标经反射后再照射至面阵探测器得到第一光场信息,第一光场信息经上位机进行追踪算法处理后得到发射单元控制信号,上位机将发射单元控制信号发送给二维光学相控阵;发射单元控制信号为已追踪到信号,二维光学相控阵产生赝热光场,赝热光场照射至目标经反射后再照射至面阵探测器后得到第二光场信息,第二光场信息经上位机进行强度相关成像处理得到目标成像信息。二维光学相控阵产生扫描光场时,可快速灵活的追踪探测;二维光学相控阵产生赝热光场时,可解决相位干扰时成像困难的问题。

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