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基于散斑场偏振共模抑制性的散射成像系统及方法

专利类型:
申请号/专利号:
CN202110615725.1
申请人(专利权人):
刘飞
行业类别:
技术成熟度:
公布时间:
证书状态:
授权
交易价格:
50000元
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摘要详情

技术摘要

权利要求书

技术附图

交易流程

委托经理人

本发明公开了一种基于散斑场偏振共模抑制性的散射成像系统及方法,该系统包括:光源、第一模块、第二模块和第三模块;其中,第一模块用于调制光源发出的光线,并产生线偏振光,第二模块用于对经散射介质产生的散斑图像进行调制,第三模块用于接收调制后的散斑图像并成像,该系统利用偏振共模抑制特性实现宽谱光源照明下的透过随机散射介质成像,有效去除光源谱宽所带来的背景噪声影响,能够大幅提高重建图像的信噪比、对比度和结构相似度。此外,上述基于散斑场偏振共模抑制性的散射成像系统能够利用白光LED或者自然光等造价低且易获得的宽谱照明光源实现透过散射介质成像,提高了散射成像技术的普适性,具有重要的应用价值和前景。

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