一、本专利对应产品
本专利主要用于盖板玻璃、光学和半导体硅片等抛光过程磨料的加工。
二、主要技术优势
(1)提出了一种制备球形氧化铈的方法;
(2)制备体系中不加入任何表面活性剂或分散剂，具有较好的成本优势;
(3)该球形氧化铈在稀土抛光领域如盖板玻璃、光学和半导体等具有较好的应用。
三、主要性能指标
(1)前驱体具有规则的微球状形貌;
(2)前驱体具有分散性好，形貌均一的特点;
(3)氧化铈颗粒为球形;
(4)D50在100-300nm;
(5)氧化铈颗粒分散性好，无粘连、无团聚;
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